项目规模：20m³/h
所属行业：半导体
产水水质要求：Resistivity ≧ 18 MΩ.cm (25℃)，Trace Metal < 5 ppt (genal spec)，Silicon Dioxide < 0.1 ppb，TOC < 1 ppb，Dissolved Oxygen <25 ppb，Boron < 0.1 ppb
设计原则：砂碳滤系统+2B3T 系统+ RO 系统 + EDI+精处理